高精度少子壽命測試是評估半導體材料（如硅、鍺）中少數載流子復合速率的關鍵技術，廣泛應用于太陽能電池、半導體制造等領域。以下是關鍵信息：

定義與參數

高精度少子壽命指少數載流子（電子或空穴）在半導體材料中存活的平均時間，反映材料缺陷（如重金屬污染、表面復合效應）對載流子遷移率的影響。核心參數包括：

• ?體壽命?（τ_bulk）：材料內部的平均壽命

• ?表面復合速率?（S）：材料表面載流子復合速度

• ?貫穿深度?：測試信號穿透材料的深度，高精度儀器可達500微米以上 ?
  

測試技術

高精度測試需結合多種技術：

1. ?準穩態光電導法?（QSSPC）：通過光脈沖激發載流子，監測其濃度變化計算壽命，覆蓋100ns至10ms壽命范圍 ?
   

2. ?高頻光電導衰減法?（HF-PCD）：采用高頻載波信號檢測微波反射相位變化，推導載流子遷移率，檢測速度達30ms/數據點 ?
   

3. ?微波光電導法?（MDP）：適用于低阻硅料（電阻率>0.1Ω·cm），解決傳統方法無法檢測低阻材料的缺陷 ?
   

應用場景

1. ?太陽能電池制造?：評估

   磷擴散工藝

   均勻性，開路電壓每降低10mV對應壽命減少約30μs ?
   

2. ?半導體生產?：監控硅棒切片、擴散工藝參數，優化制造參數以減少缺陷 ?
   

3. ?材料質量控制?：檢測硅芯、檢磷棒等不規則材料的體壽命與表面復合速率 ?
   

儀器特性

高精度儀器需滿足：

• 支持非接觸式測量，避免傳統接觸法引入的參數波動 ?
  

• 動態曲線監控功能，實時識別陷阱效應和表面復合缺陷 ?
  

• 擴展測試范圍至低阻硅料（電阻率可達0.01Ω·cm） ?

• 通過控制復合中心濃度可調節少子壽命：去除雜質缺陷可延長壽命，摻入金、鉑或電子輻照可縮短壽命。測試方法包括準穩態光電導（QSSPC）和瞬態模式，前者適用于低壽命樣品，后者用于高壽命樣品。